對鋁陽極氧化膜的應用最初是希望它具有良好的耐腐蝕性、耐磨性和點絕緣性；不過從80年代后期開始，則是針對鋁氧化膜的多孔性來開發(fā)研究制備具有各種功能性的膜材料。

氧化鋁膜孔的孔徑只有十幾至幾十納米，可以在納米材料的需求中發(fā)揮重要的作用。當前，鋁氧化的多孔膜研究方向有兩個，一是利用它的多孔結構，研制新型的超精密分離摸；另一個是通過在其納米級微孔中沉淀各種行質(zhì)不同的物質(zhì)，如金屬、半導體、高分材料等，來制備新型的功能材料。

為了有效地利用太陽能，要求太陽能吸收膜的材料在太陽光放射譜域有較高的吸收率，而在熱放射譜域ude放射率要盡可能地小，在鋁氧化膜孔中分別電沉淀Fe、Ni等金屬均能使膜的耐熱性明顯增強。

由于束狀微電級具有較高的信噪比等許多優(yōu)點，近年來普遍引起人們的關注。制氧化鋁多孔膜為制備高性能的束狀電級提供了有利條件。制備時可以先使鋁片陽極氧化形成多孔膜，然后將多孔膜從鋁基體上剝離下來，用真空沉淀等方法在納米級微孔中沉淀各金屬，并將其表面與導體連接，去除氧化膜的阻擋層，即可獲得束微電極。